2024年10月11日，新雅书院四字班的13名同学应刘雷波老师之邀，于早晨八点来到了清华大学集成电路学院微纳加工中心，近距离接触光刻机等先进仪器。活动伊始，秦启刚同学向大家介绍了活动内容和到场嘉宾。此次活动特别邀请了微纳加工中心副主任伍晓明老师带领参观和讲解。

加工所用先进设备处于超净间内，参观之前，伍老师强调了实验室安全和超净间的特殊性，所有进入实验室人员均换上无尘服并经过风淋室，以减少对实验室的污染。开始参观后，五位事先选择自己感兴趣的仪器并查阅资料的同学承担了讲解员的工作，为大家讲解相应的仪器。

卢浩天同学首先为大家更详细地介绍了超净间，“我们现在所在的这个超净间，它总体为千级，意味着每立方英尺的空间内，直径大于0.5微米的灰尘的数量不超过1000。光刻工作区等对除尘要求更高的区域，超净间等级则需要达到百级”。此外卢同学还简要介绍了超净间的原理，并回答了“为什么芯片制造需要超净间”这个问题。

随后，伍老师对物理气相沉积（PVD）进行了简单的讲解和说明。兰新亮同学则进一步介绍了介质镀膜机，“介质镀膜主要是在晶圆表面形成均匀的薄膜层，以起到绝缘或隔离的作用，对于提升芯片稳定性有很大帮助。”他也在PVD之外拓展讲解了化学气相沉积（CVD）、薄膜建设沉积系统和介质镀膜的操作流程。

接下来，陈明昊同学介绍了芯片制造中的刻蚀机，“如果把硅晶体上的工作比作木匠干的活，光刻相当于木匠画线，而刻蚀则相当于加工木料。”陈同学比较了干法和湿法刻蚀的工艺和优缺点，指出干法刻蚀目前占主流。

进入光刻区域后，同学们近距离接触了光刻机，武昊阳同学介绍了芯片生产中最重要的步骤——光刻。他讲解了光刻的原理，光刻机的构成和光刻机的核心性能指标，指出了我国光刻机需要攻克的难点。

之后，同学们离开超净间，参观聚焦离子束显微镜（FIB）,由韦康祥同学为大家介绍了FIB的原理，用途，并与扫描隧道显微镜相比较。

在参观的末尾，主持人秦启刚，黄雨欣采访了束望、李睿宁、贾晨溪和李佳宁四位同学，同学们表达了参观后对于集成电路产业和个人发展的新感悟和新思考。刘雷波老师则向同学们讲述了他对梅贻琦老校长“大楼”和“大学”的理解，在自然科学技术领域，“大楼”很重要，有了大楼和设备，才可能有大师；提升制造能力，才能促进创新能力的发展。最后，主持人黄雨欣表达了对老师们和助教们支持的感谢。

在今年的重阳节，同学们迎来了一次别开生面的“登高望远”。经过此次参观，同学们都受益匪浅，不仅结合实验仪器了解了相关知识，还开阔了眼界，切身感受到国家芯片产业发展被“卡脖子”的现状，以及冲破阻碍的决心。追求卓越，传承创“芯”，同学们也期待着未来能在芯片领域贡献自己的力量！